专利号:CN202110727435.6
专利名称:一种用于制备氢基还原气的工艺参数确定方法
申请日:2021/6/29
专利类型:授权发明
支付方式:一次总付
支付标准:60万元
许可期限届满日:2041/6/27
所属分类:制造业
项目详情:本发明公开了一种用于制备氢基还原气的工艺参数确定方法,包括:分别以H/C摩尔比和O/C摩尔比作为纵、横坐标,绘制H‑C‑O二维图;预设原料气体只有CH4、H2O、CO2三种气体,在二维图中分别绘制L1和L2直线;按等H2O/CH4摩尔比值,过(2,0)点做放射状直线,绘制H2O/CH4标尺;做平行于L1直线的直线,绘制CO2/CH4标尺;在二维图中绘制T温度下的等H2/CO直线族;根据给定H2/CO比值的还原气组成,确定T温度下待制取还原气在二维图中的坐标位置,结合H2O/CH4和CO2/CH4标尺,确定与CH4所需的H2O气体和CO2气体的摩尔添加量,即可确定制备给定组成还原气体的工艺参数。
联系人:孙聪
电话:83671445
