专利号：CN201910533157.3
专利名称：一种具有复合膜层的烧结钕铁硼磁体及其制备方法
申请日：2019-06-19
专利类型：授权发明
支付方式：一次总付
支付标准：10万元
开放许可期限：16年
所属分类：制造业
项目详情：本发明涉及磁性材料表面防护技术领域，尤其涉及一种烧结钕铁硼磁体表面复合膜层及其制备方法。该具有复合膜层的烧结钕铁硼磁体包括磁体本体，以及依次层叠设置于磁体本体表面的铝膜层、氧化铝膜层和氮化钛膜层。本发明提供的烧结钕铁硼磁体，通过依次沉积铝膜层、氧化铝膜层和氮化钛膜层，能够打断和封闭贯穿薄膜的组织缺陷的结构效应，避免了形成贯穿多层薄膜的针孔、微裂纹等组织缺陷，提高了磁体的耐腐蚀性。多层膜交替沉积，减少了膜层内应力，使氮化钛更加致密，还增强了膜层之间及膜层与基底的结合力，进一步增强了耐腐蚀性能。此外，通过氧化铝膜层的设置，还提高了磁体的耐高温抗氧化性，通过氮化钛膜层的沉积，提高了磁体的抗冲蚀能力。
联系人：张刚刚
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