专利号：CN201910142821.1
专利名称：一种溅射离子泵的磁路结构及溅射离子泵
申请日：2019-02-26
专利类型：授权发明
支付方式：一次总付
支付标准：50万元
开放许可期限：16年
所属分类：制造业
项目详情：本发明涉及一种溅射离子泵磁路结构及溅射离子泵,包括抽气组件、一对梯台型磁轭、磁铁和下方磁轭，所述下方磁轭的两端上方分别设有所述磁铁，所述磁铁的上面固定梯台型磁轭，所述梯台型磁轭下宽上窄设置，所述一对梯台型磁轭的垂直面相对设置，所述抽气组件固定于两个梯台型磁轭之间，随着与磁铁距离的增大，所述梯台型磁轭的厚度逐渐缩小，收缩其中的磁力线，使抽气组件空间内形成磁感应强度不变的均匀磁场。该磁路结构中磁轭将大量磁力线束，带有磁轭的抽气组件内阳极筒轴线处的磁感应强度整体高于没有磁轭的抽气组件，磁场利用率高，提高效果明显，结构简单，有效降低了泵的体积和重量，降低了加工成本。
联系人：张刚刚
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