专利号：CN201910363012.3
专利名称：一种气体弧光放电装置、与真空腔体的耦合系统及离子渗氮工艺
申请日：2019-04-30
专利类型：授权发明
支付方式：面议
支付标准：面议
所属分类：其他
项目详情：本发明提供一种气体弧光放电装置、与真空腔体的耦合系统及离子渗氮工艺，利用热阴极电子发射原理与辅助阴极进行配合产生等离子体，通过该装置的磁场模块与腔体轴向磁场模块耦合进行等离子体渗氮。通过控制气体弧光放电装置与腔体轴向磁场的参数进行耦合，选取最佳磁场参数，增加真空腔体内等离子体能量及密度，获得最佳的渗氮效果。利用本发明的装置和方法，对316L奥氏体不锈钢进行60min等离子体渗氮处理，渗氮层的硬度可以达到1100HV0.05,渗氮深度可以达到50μm上，渗氮层中无氮化物析出，且渗氮层为单一的γN相，保证了渗氮工件的高硬度和高耐磨损性能。
联系人：张刚刚
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