CN202010170852.0 一种基于耦合作用去除镀铬溶液中杂质离子的方法

发布者:张永姣发布时间:2024-07-17浏览次数:12

专利号:CN202010170852.0

专利名称:一种基于耦合作用去除镀铬溶液中杂质离子的方法

申请日:2020-03-12

专利类型:授权发明

支付方式:面议

支付标准:面议

所属分类:制造业

  

项目详情:本发明属于镀铬板的生产控制技术领域,公开了一种基于耦合作用去除镀铬溶液中杂质离子的方法。基于镀铬溶液中的杂质离子及其浓度,基于热力学耦合原理,分别控制金属铬镀液及铬氧化物镀液的pH来提高镀铬板表面能,通过对镀液的改进,有效的提高了含杂质较多的镀铬板的表面能,使镀液中高浓度的杂质离子形成沉淀,通过热力学耦合作用把低浓度的杂质离子一起沉淀下来,然后将沉淀物过滤,从而净化镀铬溶液,实现了镀液中除铁离子之外的铝离子以及钛离子的高去除率,其中,Al3+、Ti3+的去除率达到90%以上,达到很好的净化镀液的效果,对提高生产效率具有重要意义。

  

联系人:张刚刚

电话:83671445

邮箱:dbdxzscq@mail.neu.edu.cn