专利号：CN201110445928.7
专利名称：一种制备单一或壳核结构纳米粒子及其薄膜的设备和方法
申请日：2011-12-28
专利类型：授权发明
支付方式：面议
支付标准：面议
所属分类：新材料
项目详情：本发明属于纳米材料与纳米技术领域，具体涉及一种利用磁控溅射技术制备各种无机或金属纳米粒子及纳米粒子薄膜的设备和方法以及把纳米粒子修饰成壳核结构纳米粒子的设备和方法。本发明的设备有一个外圆柱形玻璃腔体，在外圆柱形玻璃腔体内有一个锥形腔体，设备工作时，惰性工作气体流入锥形腔体，使其内外产生10～150Pa的气压差，启动直流或射频电源，使锥形腔体内产生的纳米粒子沉积在下方的基板上，制备出纳米粒子薄膜，在外圆柱形玻璃腔体内通入修饰气体，利用外圆柱形玻璃腔体内由射频电感耦合线圈产生的等离子体对纳米粒子表面进行修饰处理，制得具有壳核结构的纳米粒子及其薄膜。本发明的设备结构简单，操作方便，成本低廉。
联系人：张刚刚
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