专利号：CN201510753357.1
专利名称：一种Ni‑Mn‑Ga合金薄带及其制备方法
申请日：2015-11-05
专利类型：授权发明
支付方式：面议
支付标准：面议
所属分类：新材料
项目详情：一种Ni‑Mn‑Ga合金薄带及其制备方法，属于新材料技术领域。合金薄带中元素的摩尔数之和为100，元素的摩尔比为Ni∶Mn∶Ga＝(51.5～52.5)∶(25.5～26.5)∶(21.5～22.5)。制备方法：(1)真空电弧熔炼多次反复熔炼；(2)甩带法制备厚度为90～120μm的快淬合金薄带；(3)退火处理。本发明合金薄带在降温过程，呈现出3种转变同时发生的特征：(1)磁性转变：由顺磁奥氏体直接转变为铁磁马氏体；(2)马氏体转变：奥氏体转变为7M马氏体；(3)中间马氏体转变：7M马氏体转变为NM马氏体。本发明的合金薄带在2T磁场下，磁熵变化为‑12.5～‑16.4Jkg‑1K‑1，在5T磁场下，磁熵变化为‑25.5～‑30.0Jkg‑1K‑1。
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