专利号：CN201810789663.4
专利名称：一种立式磁流变抛光装置及方法
申请日：2018/7/18
专利类型：授权发明
支付方式：入门费和提成费相结合
支付标准：入门费为5万元; 提成费按当年度合同产品净销售额的10% 提取
开放许可期限：3年
所属分类：制造业
项目详情：本发明涉及一种立式磁流变抛光装置，其包括：抛光机构和夹持机构；抛光机构包括磁架、线圈和竖直设置的储液管；储液管内孔与工件匹配，盛装磁流变液；夹持机构夹持工件使之与储液管的位置匹配；线圈在储液管内孔形成磁场，磁流变液形成一层柔性的抛光膜；工件和抛光膜沿竖直方向相对运动且在水平方向上沿工件轴线相对转动。本发明提供的立式磁流变抛光装置及方法，磁流变液发生流变效应剪切屈服应力和表观粘度都比较高的具有粘塑性的抛光膜，利用磁流变液与被加工表面的相对运动，对表面进行材料去除，其抛光过程不受工件表面形状的限制，抛光效率高且无损伤。装置结构简单易控制，可抛光不同特性和要求的工件。
联系人：成雅剑
电话：83671445